曝光方式

*光源：采用GCQ350Z型超高压水银直流汞灯。

*照明范围：≤110mm

*不均匀性：ф100mm内±3%

*可使用的波长：g线、h线、I线的组合。

*成象面照明：光照度2～20毫瓦/厘米²,任意可调(出厂时,照明度调在4mw/cm²)

主要性能指标

1、有三种版夹盘供选择，能真空吸附5"×5"或4"×4"方形掩版（2.5"×2.5"），版的厚度无特殊要求1.5~3mm皆可。分别用于φ4、φ3、φ2基片的曝光。基片厚度0.1~1mm都可以。

2、采用进口时间继电器（该继电器可从0.1秒~999.9秒内任意设定）控制“真空快门”。动作准确可靠。

3、该机为双面接触式曝光机，该机特制的翻版机构，能消除基片楔形误差，保证上下二块掩膜版对基片上下两面良好的接触，从而保证基片上下两面的曝光质量。

4、分辨率估量：如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定、环境、温度、湿度以及房间净化得到严格控制，采用进口“正性”光刻胶，且匀胶厚度和均匀度也得到严格控制的话，本机曝光最小分辨可达0.002mm，建议使用在≥0.003mm以上。

5、对准：

A、 两个单视场变倍显微镜加二个CCD摄像机加14"显示器。

1）二个单视场变倍显微镜的变倍范围0.7X~4.5X.

2）二个CCD摄像头：平面对角线尺为1/3"。

3）采用19"液晶显示器，总放大倍数为0.7×42~4.5×42=30倍~189倍。

B、对准台

首先真空吸附下掩版（注意掩版四个边，平行于真空吸下掩版的装置四个边），然后将上掩版放在下掩版上，转动曝光头位置，使两个单视场显微镜对准上掩版，调好左右两个显微镜的焦距，从监视屏上看清两个像。调整下掩版X、Y和Q转动，使上掩版上的图像或标记线，显视到显示器屏的左右分开的中间位置，然后真空吸附上掩版。上掩版一旦吸附后，再也不能移动。通过下掩版进行X、Y和Q移动后，实现上下掩版的对准工作。

上下掩版的对准精度≤±0.001mm。

该机的主要优点是，有一个上掩版相对于下掩版的翻转机构，该机构翻转角度≥90º，甚至可达180º，不仅便于上下基片，而且能保证上下掩版对应基片上下面的良好接触。（能补偿基片的楔形误差），又能保证上下掩版对准了的图形重合到原来位置，其误差≤5μm。

这一点很重要，也就是说上下掩版对准后，不管怎么翻动，怎样上下基片，上下掩版的图形仍然是对准的！这对大批量生产的厂家来说很重要，只要上下掩版对准后，你就可以不断地对基片进行双面曝光，曝若干片以后，你如果想观察上下掩版是否仍然对准的，你只要转动曝光头，使显微镜对准版，你就能在显示器上看见，两个版的对准情况。

X、Y调整范围±4mm

Q转角≤±5º

主要组成部分

双面对准曝光机的组成

A、 主机

1）主机（含机体和工作台）

2）机体上安装二台单视场可变倍数显微镜，二台CCD摄像头，一台19"显示器，一套很有特色的上下翻版装置，二个16面反射镜式多点光源曝光头。

B、 附件：（用户提出后，可配以下附件）

1）3"上下掩版吸版装置

2）3"上下翻板装置

3）一个350瓦高压球形汞灯

4）真空泵一台

5）Ø8（外径）高压用塑料管15m（用于真空管）一根

安装条件

1、安装环境

A、建议室温保持在25℃±2℃（77ºF±3.6ºF为华氏）。

B、 相对湿度不超过60%

C、 振动,因为曝光机要求很高的对准精度，故要求机器安装在无振的地方，保持振幅度不超过0.004mm。

D、 净化。房间的净化很重要，特别是生产很细线条的光刻间，希望净化到100级。

2、对掩版和片的要求

对掩版和片的厚度无特别要求，但版的外形尺寸，特别是版和片不平整度要求，都应符合国家标准。

尺寸和重量

尺寸：700（长）×700（宽）×960（高）

重量≤100kg

机体放在专用工作台上

工作台  750（长）×720（宽）×640（高）  高度可调范围0~30mm

重量70kg (工作台后侧装有电气部分)总重量≤170kg

机体放置换要求

机体放在专用工作台上。

工作台:1100 mm（长）×750 mm（宽）×645 mm（高）。

高度可调范围0～30mm。

重量50Kg（工作台后侧装有电气部分）。

总重量≤200Kg