一、主要用途和主要性能指标
主要用途:
⒈ 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研
制和生产。
⒉ 由于本机找平机构先进,找平力小、使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片、宝石片的曝光,而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。
主要构成
主要由高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、采用高
均匀性的多点光源、 蝇眼、LED、曝光头,PLC电控系统、气动
系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、二级防震工作台和附件箱
等组成。
主要性能指标:
1有三种版夹盘,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。对版的厚度无特殊要求(1~4mm皆可)。如果不同于上述尺寸的版,真空无法吸附,但可采用夹盘上的螺孔,和特殊的压片固定版。
2设有相对应的真空吸附基片的“承片台”三个,分别适用于φ4,φ3,φ2片。对于非标准片或碎片,只要堵塞相应的小孔,同样能真空吸附。
3照明:
光源:采用GCQ350Z型超高压水银直流汞灯。
照明范围:≤110mm
不均匀性:ф100mm内±3%
可使用的波长:g线、h线、I线的组合。
成象面照明:光照度2~20毫瓦/厘米²,任意可调(出厂时,照明度调在4mw/cm²)。
4采用进口时间继电器(该继电器可从0.1秒~999.9秒预设)控制真空快门,动作准确可靠。
5该机为接触式光刻机,但可实现:
a. 硬接触曝光:用管道真空来获得高真空接触,真空≤-0.05MPα。
b. 软接触曝光:接触压力可将真空降到-0.02MPα~-0.05MPα之间。
c. 微力接触曝光:小于软接触,真空≥-0.02MPα。
6分辩率估计:如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定,环境、温度、湿度、尘埃得到严格控制,采用正性光刻胶,且匀胶厚度得到严格控制。加之前后工艺先进的话,硬接触曝光的最小分辨度可达1μm以上。如果作为批量生产,建议使用在1.5μm以上。
1. 7对准:
a. 对准显微镜:1、由两支变焦显微镜,两支CCD摄像头,一台液晶显示器和X.Z方向调节机构组成。
2、该显微镜双物镜距离可调。
3、该显微镜既可通过显示屏同时看见两物镜的象,也可转换成只看左物镜或右物镜的象。
4、总放大倍数:0.7×42~4.5×42=30X~189X。
b. 对准台:(采用片动,版不动方式)
X、Y调整:硅片X、Y的对准采用切斯曼机构或微分头调节。
粗调≥±3mm
细调≤±0.3mm。
Q调整:转角≤3°(另设粗调机构,可进行±15°粗调)
对准间隙(分离间隙)0∽50μm任意可调。
整个对准台相对于显微镜可作±15mm扫描运动。
“接触、分离”20μm情况下,片相对于版的“漂移量”,可调到≤0.5μm。
8设备所需能源:
主机电源: 220V±10% 50HZ
洁净空气≥0.4mpα
真空:-0.07~-0.08MPα。
9 尺寸和重量:
尺寸:机体900(长)×674(宽)×882(高)。
重量:150Kg。
机体放在专用工作台上。
工作台630(长)×654(宽)×645(高)。
高度可调范围0~30mm。
重量180Kg(工作台后侧装有电气部分)。
总重量≤330Kg
10光刻机的组成
1主机
a. 主机(含机体和工作台)
b. 对准采用CCD双视场系统
c. 蝇眼光源曝光头
2附件
a. 主机附件:
(1) 3"□型掩版夹盘
4"□型掩版夹盘(出厂时安装到机器上)
5"□型掩版夹盘。
(2) 用于φ2"基片的真空夹持承片台。
用于φ3"基片的真空夹持承片台(出厂时安装到机器上)。
用于φ4"基片的真空夹持承片台。
2.1安装环境:
b. 建议室温保持在25℃±2℃(77°F±3.6°F华氏)。
c. 相对湿度不超过60%
d. 振动,因为光刻机要求很高的对准精度,故要求机器安装在无振动的地方,保持振幅不超过4μm。
e. 净化。房间的净化也很重要,特别是生产线条很细的产品,希望房间净化到100级。
2.2对掩版的要求:
该机对掩版厚度无要求而外形尺寸和不平整度都应符合国家标准。非标版无法真空吸附,只能用压片压紧。
2. 工作原理及结构说明:
3.1术语:
本机由主机、工作台、电控盒和附件箱构成。
主机由曝光头、显微镜、板架、承片台、Z向运动装置、五层导轨和切斯曼机构等组成。
电控盒安装在工作台后面,内有可编程序控制器一台及低压电器。
附件箱内装有不同规格的“承片台”、“掩板架”。
3.2曝光头:蝇眼曝光头
3.2.1照度不均匀性的测量及计算:
不均匀性用曝光检测计测量(UV-A型紫外辐照计,北师大生产)
E最大 - E最小
U = ±────────×100%
E最大 + E最小
测量5点或9点(如右图)
本机拥有高均匀性的曝光系统,其不均匀性≤±5%。
3.2.2曝光时间的控制
本机设有进口时间继电器,可进行0.1~999.9秒曝光时间的预选。
3.4对准台
3.4.1对基片楔形偏差的“找平”机构:
传统的“找平”机构,采用“半球体”机构,这种机构的“找平力”比较紧塞,用气浮办法虽然解决了紧塞问题,但又产生了新的问题,一方面,Q角有了变化,另一方面气浮时,承片台反而不平,片在顶版的过程中虽然逐渐找平,但反复先接触的地方,版上图形最容易擦伤!而且容易产生“漂移”。
本机采用“三点找平”机构(如图2)科学的解决了光刻机最难解决的“漂移”问题(一般可调到0.5μm左右),这是一大进步,有利于套刻精度的提高,避免了操作工人因“漂移”而反复对准,或是在接触情况下进行的有可能擦伤版的对准!这不仅提高了套的速度,而且因版的接触次数大大减少,而提高了产品
的成品率。
3.4.2复印机构
a.“真空复印”
属于是接触式光刻机,曝光时片要顶紧版,由于存在顶紧力,片顶紧版时,版向上弯曲变形,造成中间部位接触不良,影响曝光分辩率和产品成品率。我们采用密封圈A进行密封,并通过B管道使C腔抽真空,大气的压力把版压向片,使之版片牢牢压紧,压紧力的大小,可通过通入管道的“密着真空度”进行调节。真空度≤500mmHg叫软接触,≥500mmHg叫硬接触。
b.“微力接触”
本机由于运用“三点找平”机构,不仅“找平”非常理想,而且“找平力”也非常小,因而找平力使版的变形也小。为了提高版的复用率,和产品成本率,用户不一定用“真空复
印”方式曝光,用微力接触曝光也可以。
3.4.3对准台
对准台由以下部件组成:
a.“板架机构”:
“版”真空吸附在“版夹盘上”,“版夹盘”固定在板架机构燕尾槽内。
b.“三点找平”及承片台升降机构:
“三点找平”机构非常理想地消除基片的楔形误差,承片台的升降由气缸执行,而导向精度靠非常精密的,无间隙运动的“滾珠直进导轨”。承台可作±3°旋转运动。
c.微分离机构:
“接触”-“分离”是靠微分离机构实现的。微分离机构是用调压阀改变气压大小,“簧片”变形大小实现的,简单、可靠。
d.五层导轨
上三层导轨实现承片台对版的相对运动。(X和Y向)粗调±3mm,细调±300μm.
下面二层导轨实现对准台相对于显微镜X、Y(±15mm)扫描运动。
由于采用片运动,版不运动,显微镜里的版上图形不动。五层导轨的自重力和版片间的顶紧力一致,所以导轨间的间隙始终是自动消除的,因而提高了套刻对准精度,减少了“漂移”。
4. 操作程序的简要说明:
每天上班后,清洁曝光机各部位,尤其是清扫“承片台”上平面和承片台上的“真空密着环(橡皮,使之无油、无尘、无硅碴等),然后注意将承片台推入或拉出到极限位置。
4. 1 打开电源开关,(机箱上标有“电源”字的开关),开关灯亮,气压表显示数值。
此时检查左表板上的“系统真空”表,看是否保持真空度≥-0.07MPa以上,否则要检查漏气原因并消除之。
4.2打开汞灯电源(左表上标有“汞灯”字样的开关),指示灯亮。
此时观察电流表指针,直到电流表指针动作,并指到5A左右,说明汞灯已点燃。
最少要15分钟以后,汞灯亮度才能稳定,操作者才能进行以下工作。
4.3调节气压(左表板)
观察进气压力,是否≥0.3Mpa,然后调节“给定压力”=0.2Mpa,最后调节“分离压力”,一般调到0.18Mpa左右。
4.4“真空吸版”
将版放到版夹盘上,按“真空吸版”开关(面板上标有“吸版”字样的开关),指示灯亮。版被吸牢。如果“系统真空表”因这一动作而掉表,应查明原因,是否版不平,或者版和版夹盘上有杂物。
4.5“真空吸片”
将承片台拉出,检查承片台表面是否清洁,放上片,按“真空吸片”开关(面板上标有“吸片”字的开关)灯亮,片被吸牢。
如果片的底面不平,片不规则(如碎片)等,片的吸牢程度将低,而且“系统真空表”有掉表现象,如果严重,将影响吸片牢度。
4.6承片台上升并实现片对版的自动找平。
将承片台推入后,按“承片台上升”键(面板上标有“台升”字的开关)灯亮,承台上升,升降速度可通过气路调节,一般到从启动到结束为2秒左右。此时,操作者观察“找平”指示灯是否亮?(亮为正常),指示灯亮,说明版、片已找平,而且三销已锁紧。分离开的承片台上半部和下半部,由解除真空吸附变成“真空吸附”。
4.7.2进行粗细调对准
对准操作,必须在分离情况下操作,右表板和鼠标上设有“按”键,点动一下,分离灯亮,再点动一下,接触灯亮,分离灯灭。此时曝光条件满足,不允许接触状态下进行细调粗调操作,否则将擦伤版!X、Y微分头进行调节。
4.7.3扫描运动
扫描手柄设在主机右侧,按下开关,可进行±15mm扫描运动。
4.7.4真空压紧
当操作者确信版和片已对准,首先按接触分离键,使之接触,确信版片对准符合要求,可按“真空压紧”键(面板上标有“压紧”字的键)。
本机设有这个键,以便操作者在显微镜观察下看“真空密着”时,是否“跑片”。确信没有跑片,对准情况好才能进行下一步。
3. 8曝光
曝光前必须预设曝光时间,本机右板上设有进口的0.1~999.9秒时间继电器,设定你所需要的时间,再用手搬动曝光头使之对准承片台,此时已触动曝光头座上的接近开关,曝光计时开始,时间继电器上的时钟数码不断闪动,真空快门在计时开始时已打开,直到预设时间到,快门关、曝光结束。
如果用户觉得999.9秒还不够的话,本机还设有任意延长开关。
5.安装说明:
5.1拆箱:拆箱取出主机和附件箱时,不需使用无尘房间,一旦拆箱后,特别是从密封的塑料袋式小木箱取出每个单元时,应立即放入无尘房间。
拆箱程序:
a. 大箱拆开后,拆去塑料罩和干燥剂。
b. 拆去主机周围的附件箱。
c. 拆去主机工作台四个脚的连接件,装上四个防尘足垫。
d. 用人工抬台面版,将主机移入净化间要安装的地方。
5.2安装和清洗:
a. 认真清洗各承片台和版夹盘(包括“备件”),不用备件仍需涂上防锈油,放到备件箱内。
b. 调节工作台下面四个螺杆足的高度,使工作台四角高度一致。
c. 安装曝光头(由我方派人安装)
用户拆换汞灯时注意:①用脱脂棉擦干净汞灯球面,清洗和安装汞灯时,手指不要接触汞灯球面;②装汞灯时,既要将上下接线片压紧,又要注意不把汞灯扭断!接线片如果没有压紧,造成汞灯“启辉”困难,每次换汞灯后,都要进行出射光束均匀性调节。
按说明书接上电源、气源和真空源。
6. 使用、维护和保养说明
6.1定期检查:这样做,可以使光刻机永远处于良好的工作状态,并达到其最好的工作性能。
6.1.1每日任务:
a. 测量成象表面的照度,通过光栏手轮调节照度,使之达到所希望的照度。同时进行不均匀性调节。
b.检查气压表:
△ 观察进气压是否≥0.3Mpa
△ 将给定压力调到0.2Mpa
△ 分离压力一般调到0.18Mpa左右
c.检查真空表
不“吸片”和没有进行“真空吸版”情况下,“系统真空表”上的真空度≥-0.07Mpa左右,否则应检查管路系统,查明漏气原因,并想法排除。
d.清扫承片台上平面,无油、无尘、无硅碴等,同时清扫承片台上安装的橡皮密着环,使之无硅碴等。
e.清扫版夹盘上下两平面,特别是上平面,不得有硅碴、灰尘等,按“吸版”按钮,吸上版,用手检查版应牢牢吸住,观察“系统真空表”,“吸版”和“解除吸版”,系统真空表指示值
不应有明显变化。
6.2电器部分使用维护和保养说明
C-25型精密对准光刻机电气控制部分包括可编程序控制器(PLC),真空电机起停、汞灯电路、曝光定时、输入采样和输出控制等几部分。PLC采用日本OMRON公司生产的CPM2AH-40程控器,主要按钮开关采用施耐德公司产品,输出电磁阀全部采用日本SMC公司生产的VK332型电磁阀,使整机的可靠性大幅提高,并可灵活改变PLC控制程序,以适应不同的工艺要求。
6.2.1总功率及电源
电气控制部分总功率为1.5KW。其中真空泵电机250W汞灯部分约为800W。
电源:真空泵电机单相220V,50HZ。
6.2.2真空泵电机
按“总电源”按钮(SA11)灯亮,电机运转;关SA11,灯灭,电机停转。
6.2.3汞灯电路
按下“汞灯电源”按钮(SA12),汞灯电源接通。若汞灯不能自然,可按一下“启辉”按钮(SB13)。
6.2.4可编程序控制器(PLC)
控制部分采用日本OMRON公司生产的CPM2AH-40型PLC,其主要指标如下:
1. 电源AC100~240V,50/60HZ,60VA以下。
2. 输出16点(继电器),AC250V/2A,DC24V/2A。
3. 输入24点,5ma,24VDC。
有关PLC的详细情况参见CPM2AH-40使用说明书。
6.2.5输入采样
输入采样分按钮开关、时间继电器、位置检测三种。其代号、功能及其对应PLC输入口地址见下表。
代号
PLC输入口址
功能
SA1
无
真空吸版
SA2
无
真空吸片
SA3
无
吸盘(扫描)
SA5
003
承台升降
SA6
004
分离/接触
SA8
006
压紧
无
粗调/微调
无
任意/定时
010
曝光
KT1
011
曝光时间到
SQ1
无
承台上限
6.2.6输出控制
输出控制分为电磁阀、指示灯和时间继电器三种。其代号、功能及对应的PLC输出口地址见下表。
代号
PLC输出口址
功能
无
真空吸版(OFF:吸版)
无
真空吸片(OFF:吸片)
KM3
1001
风机
无
承台转动
FV5
1002
承台升降(ON:承台升)
FV6
1003
三销锁紧(OFF:锁紧)
FV7
1004
吸/松 承台(ON:吸承台)
FV8
1005
分离/接触(ON:分离)
FV10
1007
压紧(ON:压紧)
FV11
1100
快门(ON:开快门)
FV11A
无
1102
承台升降指示
FV14
1103
压紧解除
KT1+KA1
1000
曝光时间继电器
HL4
1105
找平指示灯
HL8
1106
分离指示灯