最新资讯
联系我们
-
17
2024-11
水浸光刻机
水浸光刻机（Immersion Lithography）是半导体制造领域中的一种重要技术，它主要解决了随着芯片制造工艺不断缩小，传统光刻技术的分辨率瓶 ...
-
16
2024-11
世界上最好的光刻机
光刻机（Lithography machine）是半导体制造中至关重要的设备，用于将集成电路的设计图案转移到硅片上，是实现芯片微缩和提高性能的关键技术 ...
-
15
2024-11
皮米光刻机
皮米光刻机是一种超高分辨率的光刻设备，旨在突破传统光刻机的极限，推动芯片制造工艺的进一步发展。光刻机作为半导体制造中的核心设备，利用光来将集成电路的设 ...
-
14
2024-11
光刻机光罩
光罩（Photomask）是半导体制造过程中至关重要的组件之一，尤其在光刻工艺中发挥着核心作用。光刻工艺是将设计好的电路图案转移到硅片上的关键步骤，而 ...
-
13
2024-11
光刻机供应链
光刻机是半导体制造过程中最关键的设备之一，主要用于将集成电路的设计图案转印到硅晶片上，是现代电子产品的生产基石。由于其高技术要求和极其复杂的制造过程， ...
-
12
2024-11
蔡司 光刻机
蔡司（ZEISS）是全球领先的光学技术公司之一，成立于1846年，总部位于德国。蔡司主要涉及光学、光电子和纳米技术等领域，其产品涵盖了从显微镜到精密测 ...
-
11
2024-11
euv型光刻机
极紫外（EUV）光刻机是一种先进的半导体制造设备，用于在晶片上刻蚀极小尺寸的电路图案，是现代半导体制造工艺中至关重要的设备之一。随着半导体技术不断发展 ...
-
10
2024-11
晶圆光刻机
晶圆光刻机是现代半导体制造中不可或缺的设备，用于将微小电路图案转移到硅晶圆表面，是制造集成电路（IC）、微机电系统（MEMS）等器件的核心设备。光刻机 ...
-
09
2024-11
光刻机晶圆
光刻机晶圆（或称光刻晶圆）是半导体制造过程中的重要组成部分，它是制造集成电路（IC）和其他微电子器件的基础。在光刻工艺中，晶圆作为承载基础，通过涂覆光 ...
-
08
2024-11
suss 光刻机
SUSS光刻机是由德国SUSS MicroTec公司制造的一种精密的光刻设备，广泛应用于半导体制造、微电子、MEMS（微电子机械系统）、微纳加工、太阳 ...