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04
2024-09
光刻机干什么用
光刻机（Lithography Machine）是半导体制造过程中至关重要的设备，主要用于将集成电路设计图案精确地转印到硅晶圆上。作为半导体制造工艺中 ...
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03
2024-09
90nm光刻机
90nm光刻机代表了半导体制造技术中的一个关键技术节点，主要用于实现90纳米（nm）工艺节点的集成电路制造。90nm光刻机的技术背景、关键技术、工作原 ...
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03
2024-09
光刻机瑞典
光刻机是半导体制造中的关键设备，其技术的发展直接影响到集成电路的性能和制造工艺。在全球光刻机市场中，瑞典虽然不是最主要的生产国，但其在光刻机领域的技术 ...
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03
2024-09
进步光刻机
进步光刻机（Progressive Lithography Machines）在半导体制造领域中代表了一种先进的光刻技术，其发展和应用推动了半导体行业 ...
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02
2024-09
24nm光刻机
24nm光刻机代表了半导体制造技术中一个重要的技术节点，用于实现24纳米（nm）工艺节点的集成电路制造。该光刻机在特征尺寸上虽然不如先进的7nm或5n ...
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02
2024-09
65nm光刻机
65nm光刻机是半导体制造技术中的一个重要节点，主要用于制造65纳米（nm）工艺节点的集成电路。65nm工艺节点标志着半导体制造技术的一次重要进步，其 ...
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02
2024-09
x射线 光刻机
X射线光刻机是一种利用X射线作为光刻曝光源的光刻设备，主要用于在半导体制造中实现极高分辨率的图案转印。X射线光刻技术被认为是突破现有光刻技术分辨率极限 ...
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01
2024-09
光刻机的关键技术
光刻机是半导体制造过程中最关键的设备之一，其作用是在硅晶圆上精确地转印出集成电路的微小图案。光刻机的性能直接决定了半导体器件的尺寸、性能和良率。光刻机 ...
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31
2024-08
1微米光刻机
1微米光刻机是早期光刻技术的一种代表性设备，用于在半导体制造过程中实现1微米（1000纳米）级别的图案分辨率。虽然相比于现代纳米级光刻机来说，1微米的 ...
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30
2024-08
10nm光刻机
10纳米（10nm）光刻机是半导体制造技术中的重要设备，用于制造具有10纳米特征尺寸的集成电路。随着半导体工艺节点的不断进步，光刻技术在实现更小尺寸和 ...