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2024-12
艾斯摩尔光刻机
艾斯摩尔（ASML）是全球领先的光刻机制造商，凭借其在光刻技术方面的创新，引领了现代半导体制造工艺的发展。光刻机是半导体制造中至关重要的设备，它通过将 ...
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2024-12
光刻机的三大核心技术
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，广泛应用于集成电路（IC）的生产。它通过将微小的电路图案从光掩模转移到硅片或其他材料基片上的光刻胶层，构成 ...
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2024-12
封测光刻机
在半导体行业中，封装和测试（封测）是将芯片生产过程中的裸片（die）转化为最终可用产品的关键阶段。封测包括封装芯片、测试其功能与性能等多个步骤。在这一 ...
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2024-12
5纳米的光刻机
在现代半导体制造中，随着工艺节点的不断缩小，光刻机作为实现微观电路图案转移的关键设备，其技术要求也越来越高。尤其是在5纳米（nm）制程节点上，光刻机不 ...
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2024-12
光刻机详解
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，主要用于将微小的电路图案从光掩模转移到硅片上的光刻胶层中，从而形成集成电路（IC）的结构。光刻技术是半导体 ...
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2024-12
mems光刻机
MEMS光刻机（Micro-Electro-Mechanical Systems Lithography Machine）是用于制造微机电系统（MEM ...
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2024-12
7纳米的光刻机
随着半导体技术不断向更小的工艺节点发展，7纳米（nm）制程成为当前主流的先进制造技术之一。为了满足7纳米及以下制程节点的需求，光刻机作为半导体制造过程 ...
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2024-12
光刻机封装
光刻机封装（Lithography Machine Packaging）是指在半导体制造过程中，光刻机内部各个组件的保护、连接和密封技术。1. 光刻机 ...
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2024-12
光刻机的光源
光刻机的光源是半导体制造过程中至关重要的组成部分，直接影响到图案转移的分辨率和制造精度。光刻技术通过将芯片设计图案从光掩模投射到硅片上的光刻胶层中，而 ...
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2024-12
duv光刻机制程
DUV光刻机（Deep Ultraviolet Lithography） 是一种使用深紫外光源的光刻技术，在半导体制造中广泛应用于芯片生产的不同工艺节 ...