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2024-07
ic前道光刻机
IC前道光刻机（IC Front-end Lithography）是集成电路制造过程中的关键设备之一，主要用于晶圆（wafer）制造的前端工艺步骤 ...
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2024-07
0.35um光刻机
光刻机（Lithography）是半导体制造中的关键设备，用于将复杂的电路图形转移到硅片上。0.35微米（µm）光刻机是指能够在硅片上实现0.35 ...
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2024-07
光刻机做什么用的
光刻机是一种关键的制造工具，广泛应用于半导体行业和其他微电子设备制造领域。 光刻机的基本概念和工作原理 光刻机是一种利用光学技术进行微细 ...
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2024-07
光刻机用的是激光吗
光刻机（Lithography Machine）是一种关键的半导体制造设备，用于在半导体芯片制造过程中将图案投影到硅片表面。尽管在不同的光刻机型号 ...
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2024-07
光子芯片需要光刻机吗
光子芯片是利用光子学原理设计和制造的微型器件，通常用于光通信、光电子计算和传感器等应用。在光子芯片的制造过程中，确实需要使用光刻机，尽管它与传统半 ...
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2024-07
极紫外光光刻机
极紫外光（EUV）光刻机是当今半导体制造领域中备受瞩目的高精度、高效率的关键设备之一。作为半导体工艺制程中的核心环节，EUV光刻机利用13.5纳米 ...
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2024-07
无掩模光刻机
无掩模光刻技术是当今半导体制造领域备受关注的一项前沿技术。与传统的掩模光刻技术不同，无掩模光刻技术通过直接将光束聚焦到硅片表面，实现对芯片器件的图 ...
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2024-07
光刻机 报价
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，它承担着将芯片图案投射到硅片表面的任务，是实现芯片制造精度和性能的关键。然而，光刻机的价格往往成为制造 ...
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2024-07
光刻机极紫外光
极紫外光（EUV）光刻技术是当今半导体制造领域中备受关注的前沿技术之一。它利用极紫外波段的光源进行曝光，可以实现比传统的深紫外（DUV）光刻更高的 ...
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2024-07
光刻机目前最高精度
在当今半导体制造领域，光刻机的精度是关乎整个工艺链成功的重要环节之一。光刻机的精度通常由其分辨率来衡量，即其能够实现的最小特征尺寸。目前，随着工艺 ...