日本本土尚未拥有完整自研并量产的EUV（极紫外）光刻机，但在EUV光刻技术的全球供应链中，日本却扮演着极为关键的角色。虽然真正制造EUV整机的只有荷兰ASML公司，但日本在光刻机核心部件材料、精密加工设备以及关键光学元件方面拥有领先的技术和产业基础。

一、日本是否拥有EUV光刻机整机制造能力？

1. 目前没有整机产品

日本目前没有类似ASML整机EUV光刻机产品。ASML 是全球唯一能够商业化提供EUV光刻设备的公司，其设备用于7nm以下工艺芯片的生产，技术极为复杂，包含数十万个零部件与超过5000名技术人员的协同开发。

2. 尝试自主研发中

虽然整机尚未推出，但日本已有计划在未来开发自主EUV设备。例如：

日本经济产业省在“国家半导体战略”中投资数十亿美元支持EUV相关技术；

日本科技企业与研究机构（如东京大学、理化学研究所）正在联合推进下一代EUV光源、镜头、对准系统等关键技术研发；

日本新创芯片公司Rapidus也宣布将在北海道设厂，计划量产2nm工艺，未来或将引入EUV设备，自主率目标提升。

二、日本在EUV光刻机中的关键作用

尽管没有整机，日本在EUV光刻核心组件上占据不可替代的地位。ASML的EUV光刻机虽然由荷兰主导整合，但其零部件和材料很多依赖日本供应商，主要包括：

1. 光掩模（光罩）基板

日本企业如 HOYA、旭硝子（AGC），几乎垄断全球EUV光罩基板市场。EUV 掩模要求极高的平整度和纯净度，全球几乎只有日本企业可以量产。

2. 光刻胶材料

东京应化工业（TOK）、JSR 等日本企业是世界领先的光刻胶制造商，尤其在EUV专用光刻胶方面技术领先。

3. 超高精度镜头

EUV光刻不使用传统透镜，而用多层反射镜系统。这些精密反射镜材料中，许多基材和镀膜技术来自日本的光学企业（如光洋精工）。

4. 硅片与硅抛光

日本的 信越化学 和 SUMCO 是全球前两大硅片供应商，提供EUV工艺所需的超高纯度晶圆。

5. 精密制造与机械

尼康（Nikon） 和 佳能（Canon） 虽然未进入EUV光刻整机领域，但其在DUV（深紫外）光刻领域仍有高水平产品，同时具备关键光学系统研发能力。

三、日本是否计划突破EUV设备？

1. 强力推动

2022年起，日本政府设立约5000亿日元（约40亿美元）专项资金，推动下一代芯片制造与EUV技术，包括EUV曝光机的研发和相关部件国产化。

2. Rapidus 项目引发关注

日本国家主导成立的新公司 Rapidus，目标是在2027年前量产2nm芯片，计划依赖EUV技术生产。

虽然前期将使用ASML提供的设备，但其愿景是逐步形成自主制造链。

3. 与ASML深度合作

日本企业与ASML关系密切。例如，HOYA、JSR等是ASML的重要合作伙伴，甚至ASML的一部分镜头系统由尼康光学工艺协助测试。

四、对全球格局的影响

不可替代的供应链环节：即使没有整机，日本企业依然是EUV系统中最关键的基础供应商之一，没有日本，EUV光刻就无法运行。

技术战略地位上升：在全球“去风险”趋势下，日本作为美国可信赖的技术盟友，正在芯片供应链中承担更高战略地位。

五、总结

虽然日本目前尚无自研商用EUV光刻机整机，但其在EUV核心零部件、材料和精密制造领域处于全球领先地位，是ASML及全球半导体工业不可或缺的重要合作方。随着国家层面的战略投资不断加大，日本未来在EUV整机研发方面具备潜力与意愿。因此可以说，日本没有EUV整机，但已经深度参与其中，并可能在未来几年成为EUV设备制造的“第二梯队”有力竞争者。