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07
2024-11
euv光刻机多少纳米
极紫外光（EUV）光刻技术是一种突破性的发展，旨在满足半导体制造工艺向更小节点推进的需求。与传统的深紫外（DUV）光刻技术相比，EUV光刻机采用了13 ...
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07
2024-11
2100i光刻机
2100i光刻机 是一款用于半导体制造的高端光刻设备，通常被用于先进的集成电路（IC）生产，尤其是在小型化、高集成度的芯片制造中。它属于传统紫外光（D ...
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06
2024-11
光刻机工艺
光刻机工艺是半导体制造中的核心工艺之一，涉及将集成电路的设计图案精确地转移到硅晶圆上的过程。光刻技术不仅是芯片制造中最关键的步骤之一，而且对芯片的性能 ...
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05
2024-11
光刻机原理详细介绍
光刻机是半导体制造中的核心设备，其主要功能是将微观电路图案精确地转移到晶圆表面的光刻胶层上。该过程是集成电路（IC）制造中最重要的步骤之一，也是当前芯 ...
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04
2024-11
光刻机的四种主要类型
光刻机是现代半导体制造的核心设备，其主要功能是将电路设计图案高精度地转移到硅晶圆上。根据不同的技术原理和应用需求，光刻机可分为四种主要类型：接触式光刻 ...
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03
2024-11
光刻机按照曝光方式分类
光刻机是半导体制造过程中的核心设备，其主要功能是将电路设计图案高精度地转移到硅晶圆上。根据曝光方式的不同，光刻机可以被分为几种类型，这些分类不仅影响成 ...
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02
2024-11
光刻机的分类
光刻机是现代半导体制造过程中不可或缺的设备，其主要功能是将电路设计图案精确转移到硅晶圆上。光刻机的分类依据不同的技术原理、应用需求和分辨率要求，可以分 ...
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31
2024-10
光刻机 物镜
光刻机中的物镜是实现高精度图案转移的关键光学组件，负责将激光或其他光源发出的光束聚焦到光刻胶涂层上的硅晶圆上。物镜的设计和性能直接影响到光刻工艺的分辨 ...
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31
2024-10
光栅尺光刻机
光栅尺光刻机是现代光刻技术中的一种重要工具，广泛应用于半导体制造、微机电系统（MEMS）以及其他高精度微纳加工领域。光栅尺的引入大大提升了光刻机的定位 ...
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31
2024-10
光刻机激光器
光刻机激光器是现代半导体制造过程中的关键组成部分，特别是在光刻技术中，激光器负责提供所需的光源，以形成高精度的微型电路图案。随着半导体技术向更小尺寸和 ...