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2024-07
上海微电子28nm光刻机
光刻机作为半导体制造的核心设备，对于芯片制造的成功至关重要。上海微电子在中国半导体产业中扮演着重要的角色，其28纳米光刻技术标志着中国在微电子领域 ...
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2024-07
光刻机：微影技术的艺术与科技结晶
光刻机是当今半导体制造领域中不可或缺的先进设备，扮演着微电子器件制造的重要角色。作为一种精密的微影技术，光刻机广泛应用于集成电路制造、光学器件制备 ...
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2024-07
清华大学申请光刻机光栅测量标定系统专利
据国家知识产权局公告，清华大学申请一项名为“一种光刻机光栅测量标定系统“，公开号CN117367746A，申请日期为2023年9月。 专利摘 ...