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2024-11
光刻机供应链
光刻机是半导体制造过程中最关键的设备之一，主要用于将集成电路的设计图案转印到硅晶片上，是现代电子产品的生产基石。由于其高技术要求和极其复杂的制造过程， ...
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12
2024-11
蔡司 光刻机
蔡司（ZEISS）是全球领先的光学技术公司之一，成立于1846年，总部位于德国。蔡司主要涉及光学、光电子和纳米技术等领域，其产品涵盖了从显微镜到精密测 ...
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11
2024-11
euv型光刻机
极紫外（EUV）光刻机是一种先进的半导体制造设备，用于在晶片上刻蚀极小尺寸的电路图案，是现代半导体制造工艺中至关重要的设备之一。随着半导体技术不断发展 ...
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10
2024-11
晶圆光刻机
晶圆光刻机是现代半导体制造中不可或缺的设备，用于将微小电路图案转移到硅晶圆表面，是制造集成电路（IC）、微机电系统（MEMS）等器件的核心设备。光刻机 ...
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09
2024-11
光刻机晶圆
光刻机晶圆（或称光刻晶圆）是半导体制造过程中的重要组成部分，它是制造集成电路（IC）和其他微电子器件的基础。在光刻工艺中，晶圆作为承载基础，通过涂覆光 ...
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08
2024-11
suss 光刻机
SUSS光刻机是由德国SUSS MicroTec公司制造的一种精密的光刻设备，广泛应用于半导体制造、微电子、MEMS（微电子机械系统）、微纳加工、太阳 ...
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07
2024-11
光刻机 光电
光刻机中的光电技术是实现高精度图案转移的关键。光刻机（Lithography Machine）通过将集成电路（IC）设计图案从掩模或光罩上精确地转移到 ...
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07
2024-11
euv光刻机多少纳米
极紫外光（EUV）光刻技术是一种突破性的发展，旨在满足半导体制造工艺向更小节点推进的需求。与传统的深紫外（DUV）光刻技术相比，EUV光刻机采用了13 ...
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07
2024-11
2100i光刻机
2100i光刻机 是一款用于半导体制造的高端光刻设备，通常被用于先进的集成电路（IC）生产，尤其是在小型化、高集成度的芯片制造中。它属于传统紫外光（D ...
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06
2024-11
光刻机工艺
光刻机工艺是半导体制造中的核心工艺之一，涉及将集成电路的设计图案精确地转移到硅晶圆上的过程。光刻技术不仅是芯片制造中最关键的步骤之一，而且对芯片的性能 ...