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  • 04
    2024-09

    光刻机干什么的

    光刻机(Lithography Machine)是半导体制造中不可或缺的核心设备,其功能是将集成电路设计图案精确地转印到硅晶圆上,形成电路结构。作为半 ...

  • 04
    2024-09

    光刻机干什么用

    光刻机(Lithography Machine)是半导体制造过程中至关重要的设备,主要用于将集成电路设计图案精确地转印到硅晶圆上。作为半导体制造工艺中 ...

  • 03
    2024-09

    90nm光刻机

    90nm光刻机代表了半导体制造技术中的一个关键技术节点,主要用于实现90纳米(nm)工艺节点的集成电路制造。90nm光刻机的技术背景、关键技术、工作原 ...

  • 03
    2024-09

    光刻机瑞典

    光刻机是半导体制造中的关键设备,其技术的发展直接影响到集成电路的性能和制造工艺。在全球光刻机市场中,瑞典虽然不是最主要的生产国,但其在光刻机领域的技术 ...

  • 03
    2024-09

    进步光刻机

    进步光刻机(Progressive Lithography Machines)在半导体制造领域中代表了一种先进的光刻技术,其发展和应用推动了半导体行业 ...

  • 02
    2024-09

    24nm光刻机

    24nm光刻机代表了半导体制造技术中一个重要的技术节点,用于实现24纳米(nm)工艺节点的集成电路制造。该光刻机在特征尺寸上虽然不如先进的7nm或5n ...

  • 02
    2024-09

    65nm光刻机

    65nm光刻机是半导体制造技术中的一个重要节点,主要用于制造65纳米(nm)工艺节点的集成电路。65nm工艺节点标志着半导体制造技术的一次重要进步,其 ...

  • 02
    2024-09

    x射线 光刻机

    X射线光刻机是一种利用X射线作为光刻曝光源的光刻设备,主要用于在半导体制造中实现极高分辨率的图案转印。X射线光刻技术被认为是突破现有光刻技术分辨率极限 ...

  • 01
    2024-09

    光刻机的关键技术

    光刻机是半导体制造过程中最关键的设备之一,其作用是在硅晶圆上精确地转印出集成电路的微小图案。光刻机的性能直接决定了半导体器件的尺寸、性能和良率。光刻机 ...

  • 31
    2024-08

    1微米光刻机

    1微米光刻机是早期光刻技术的一种代表性设备,用于在半导体制造过程中实现1微米(1000纳米)级别的图案分辨率。虽然相比于现代纳米级光刻机来说,1微米的 ...

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