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2024-08
22nm光刻机
22nm光刻机是一种专门设计用于制造22纳米（nm）制程节点的光刻设备。22nm制程是半导体制造中的一个重要技术节点，代表了集成电路和半导体器件的小型 ...
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28
2024-08
一微米光刻机
一微米光刻机（1-Micrometer Lithography Machine）是专门设计用于制造一微米级别结构的光刻设备。这种光刻机在微电子制造、微 ...
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2024-08
光刻机无掩膜
无掩膜光刻（Maskless Lithography, MLL）是一种新兴的光刻技术，旨在消除传统光刻工艺中的掩膜板（掩膜）的使用。传统光刻中，掩膜板 ...
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27
2024-08
光刻机掩膜版
光刻机掩膜版（Photomask），或称掩膜（Mask），在半导体制造过程中扮演着关键角色。它是将电路图案从设计文件精确转印到硅晶圆光刻胶上的核心工具 ...
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2024-08
实验室用小型光刻机
实验室用小型光刻机是一种专门设计用于研究和开发阶段的光刻设备，其主要用途包括微纳米结构的制备、材料科学研究以及原型开发等。相比于工业级光刻机，小型光刻 ...
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2024-08
封装用光刻机
封装用光刻机是半导体封装制造中的关键设备，负责将电路图案精确地转印到封装材料上。与芯片制造中的光刻技术类似，封装光刻机同样对封装的精度和可靠性有着直接 ...
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26
2024-08
光刻机掩膜板
光刻机掩膜板（Mask Plate），通常被称为掩模（Mask）或光掩模（Photomask），是半导体制造中至关重要的组成部分之一。掩膜板的主要功能 ...
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2024-08
英特尔的光刻机
英特尔在半导体制造领域的领先地位不仅依赖于其创新的芯片设计和先进的生产工艺，还包括其在光刻技术方面的显著投入。光刻机是半导体制造过程中的核心设备，负责 ...
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2024-08
asml的光刻机
ASML（阿斯麦）是全球领先的光刻机制造商，其光刻机技术在半导体制造中扮演了至关重要的角色。作为行业的标杆，ASML的光刻机代表了最前沿的光刻技术，并 ...
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2024-08
1950i光刻机
1950i光刻机是半导体制造领域的重要设备，它代表了光刻技术的一个重要发展阶段。光刻技术是半导体生产过程中用于将电路图案转印到硅晶圆上的关键技术。19 ...