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03
2024-09
光刻机瑞典
光刻机是半导体制造中的关键设备，其技术的发展直接影响到集成电路的性能和制造工艺。在全球光刻机市场中，瑞典虽然不是最主要的生产国，但其在光刻机领域的技术 ...
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03
2024-09
进步光刻机
进步光刻机（Progressive Lithography Machines）在半导体制造领域中代表了一种先进的光刻技术，其发展和应用推动了半导体行业 ...
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02
2024-09
24nm光刻机
24nm光刻机代表了半导体制造技术中一个重要的技术节点，用于实现24纳米（nm）工艺节点的集成电路制造。该光刻机在特征尺寸上虽然不如先进的7nm或5n ...
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02
2024-09
65nm光刻机
65nm光刻机是半导体制造技术中的一个重要节点，主要用于制造65纳米（nm）工艺节点的集成电路。65nm工艺节点标志着半导体制造技术的一次重要进步，其 ...
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02
2024-09
x射线 光刻机
X射线光刻机是一种利用X射线作为光刻曝光源的光刻设备，主要用于在半导体制造中实现极高分辨率的图案转印。X射线光刻技术被认为是突破现有光刻技术分辨率极限 ...
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01
2024-09
光刻机的关键技术
光刻机是半导体制造过程中最关键的设备之一，其作用是在硅晶圆上精确地转印出集成电路的微小图案。光刻机的性能直接决定了半导体器件的尺寸、性能和良率。光刻机 ...
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31
2024-08
1微米光刻机
1微米光刻机是早期光刻技术的一种代表性设备，用于在半导体制造过程中实现1微米（1000纳米）级别的图案分辨率。虽然相比于现代纳米级光刻机来说，1微米的 ...
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30
2024-08
10nm光刻机
10纳米（10nm）光刻机是半导体制造技术中的重要设备，用于制造具有10纳米特征尺寸的集成电路。随着半导体工艺节点的不断进步，光刻技术在实现更小尺寸和 ...
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30
2024-08
光刻机掩膜台
光刻机掩膜台是光刻技术中的关键组件，负责将掩膜版上的图案精确地转印到光刻胶涂布的硅晶圆上。掩膜台的性能直接影响到光刻图案的精度和一致性，进而影响最终集 ...
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30
2024-08
丹麦光刻机
丹麦光刻机的研究与开发代表了光刻技术在全球半导体产业中的重要地位。尽管丹麦的半导体制造业在全球范围内相对较小，但丹麦在光刻机领域的一些技术创新和合作仍 ...