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2024-09
光刻机焦深
光刻机的焦深（Depth of Focus, DOF）是影响光刻质量和分辨率的重要参数之一。焦深是指在光刻过程中，图像保持清晰的范围，即在一定的焦距内 ...
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2024-09
飞米光刻机
飞米光刻机是一种高精度的微纳米制造设备，广泛应用于半导体、光电和生物医学等领域。其核心功能是通过光照射在涂有光刻胶的基板上，形成微米或纳米级别的图案。 ...
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2024-09
雕激光刻机
雕激光刻机是一种利用激光技术进行高精度雕刻、打标和刻印的设备。它通过将激光束聚焦到材料表面，产生高能量密度，使材料在局部瞬间蒸发或熔化，从而实现所需的 ...
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2024-09
光刻机的光
光刻机的光源是其核心组件之一，直接影响光刻过程的分辨率和成像质量。现代光刻机主要采用激光光源、汞灯以及更先进的极紫外光（EUV）等。首先，激光光源具有 ...
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2024-09
gca 光刻机
GCA（General Corporation of America）光刻机是光刻技术发展史上的重要一环。作为美国早期的光刻机制造商之一，GCA在半导 ...
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2024-09
krf 光刻机
KrF光刻机（氪氟光刻机）是现代半导体制造中的一种重要设备，主要用于图案转移过程。其工作波长为248纳米，相比于传统的光刻技术，KrF光刻机能够实现更 ...
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2024-09
极紫光刻机
极紫外光刻机（EUV光刻机）是现代半导体制造中不可或缺的核心设备，代表着光刻技术的最前沿。其主要作用是将集成电路的微细图案转移到硅片上，推动了芯片制造 ...
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2024-09
euv光刻机是几纳米
极紫外光刻机（EUV光刻机）是目前全球最先进的光刻设备，它能够支持芯片制造中最小的工艺节点，代表着半导体技术的尖端发展。EUV光刻机的核心能力在于其光 ...
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2024-09
光刻机价值
光刻机是半导体制造过程中不可或缺的设备，被广泛认为是决定芯片制造能力的关键技术工具。光刻机的核心价值不仅体现在它对芯片生产技术要求的支撑上，还涵盖了经 ...
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2024-09
abm 光刻机
在半导体制造过程中，光刻技术是实现微细图案转移的核心工艺之一。ABM (Advanced Back-end Manufacturing) 是光刻机制造 ...