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04
2025-01
光刻机减震
光刻机作为半导体制造中的关键设备，精度要求极为苛刻。芯片的制造过程中，光刻机通过曝光将复杂的电路图案转移到晶圆上，而任何微小的振动都可能影响图案的准确 ...
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03
2025-01
光刻机运动台
光刻机是半导体制造过程中的核心设备之一，用于将电路图案从掩膜（Mask）转移到晶圆表面。在这个过程中，运动台（Stage）扮演着至关重要的角色。光刻机 ...
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03
2025-01
高通光刻机
高通光刻机（Qualcomm Lithography System）并非一个广为人知的专有术语，而可能指的是与高通公司（Qualcomm）相关的光刻技 ...
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03
2025-01
单面光刻机
单面光刻机是光刻技术中一种常见的设备类型，它主要用于制造单面芯片或者单层图案的曝光。1. 光刻技术简介光刻技术是半导体制造中一种重要的图案转移技术，通 ...
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02
2025-01
灰度光刻机
灰度光刻机（Gray-Scale Lithography）是一种特殊的光刻技术，主要用于纳米尺度的图案转移中。与传统的二值光刻技术不同，灰度光刻技术不 ...
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01
2025-01
光刻机主要功能
光刻机是半导体制造中的核心设备之一，其主要功能是通过投射光源将电路图案从掩膜转移到涂有光刻胶的晶圆表面。随着制程工艺的不断进步，光刻机的作用不仅限于传 ...
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2024-12
光刻机研制
光刻机是半导体制造中的关键设备，广泛应用于集成电路（IC）芯片的生产中，是现代电子产品不可或缺的基础设备之一。光刻技术通过将设计的电路图案转移到硅晶圆 ...
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2024-12
光刻机 衍射
光刻技术是半导体制造中不可或缺的核心工艺，而衍射现象在光刻机的设计与制造过程中起着至关重要的作用。衍射是波动光学中的一种基本现象，当光波遇到障碍物或通 ...
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31
2024-12
步进投影式光刻机
步进投影式光刻机（Step-and-Repeat Lithography）是现代半导体制造中最常用的光刻技术之一，广泛应用于芯片生产中的电路图案转移过 ...
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30
2024-12
光刻机移动平台
光刻机是半导体制造中的关键设备之一，它负责将电路图案转移到硅片上，进而生产出集成电路和其他微电子器件。光刻机的关键功能是通过光学投影系统将掩膜上的图案 ...