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2024-10
压印光刻机
压印光刻机（Imprint Lithography）是一种新兴的光刻技术，采用物理压印的方式将图案转移到基材上。这种技术相较于传统的光刻方法，具有更高 ...
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2024-10
28纳米duv光刻机
28纳米DUV光刻机是半导体制造中一种重要的设备，专门用于生产28纳米及以上工艺节点的集成电路（IC）。在全球半导体产业面临小型化与高性能需求不断增加 ...
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2024-10
1980i光刻机
1980i光刻机是半导体制造领域的一款重要设备，属于早期的深紫外（DUV）光刻技术。该型号光刻机在1980年代首次推出，标志着光刻技术在集成电路生产中 ...
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2024-10
时间光刻机
时间光刻机（Time-of-Flight Lithography）是一种新兴的光刻技术，利用光的传播时间来实现高分辨率图案转移。这种技术在半导体制造、 ...
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2024-10
光刻机用到的技术
光刻机（Lithography）是半导体制造过程中不可或缺的重要设备，其主要功能是将电路图案从掩模转移到硅晶圆上。随着集成电路技术的发展，光刻机的技术 ...
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2024-10
高端光刻机技术
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，它负责将微小的电路图案从掩模转移到硅晶圆上，形成集成电路的基础结构。随着半导体技术的不断进步，对光刻机的要 ...
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2024-10
光刻机什么东西
光刻机是一种利用光学技术将微小图案转印到半导体晶圆上的高精密设备。它在半导体制造过程中扮演着至关重要的角色，是实现集成电路（IC）制造不可或缺的设备。 ...
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2024-10
全球最先进光刻机
光刻机作为半导体制造中至关重要的设备，其技术水平直接影响集成电路的性能和生产效率。随着集成电路行业对特征尺寸不断缩小的需求，光刻机的技术也在不断进步。 ...
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2024-10
高精度光刻机
高精度光刻机是现代半导体制造过程中至关重要的设备，其主要功能是将微小的电路图案从掩模（mask）转印到涂有光刻胶的硅晶圆上。这一过程是集成电路制造的核 ...
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2024-10
光刻机锁机
光刻机锁机（Lithography Locking）是半导体制造过程中一种重要的技术手段，主要用于确保在光刻过程中，光刻机的各个部件和工艺参数保持高度 ...