光刻机是半导体制造过程中最重要的设备之一，其销量直接影响全球芯片产业的发展。近年来，随着半导体市场的快速增长，全球光刻机销量稳步上升。尤其是先进工艺（如5nm、3nm及以下）对高端光刻机的需求不断增加，使得EUV（极紫外）光刻机成为市场关注的焦点。

1. 全球光刻机销量趋势

近年来，全球光刻机销量持续增长，主要受智能手机、数据中心、人工智能、物联网、自动驾驶等技术需求的推动。2016年全球光刻机销量约为245台，而到2022年增长至510台，年均复合增长率达到约13%。2023年，全球半导体IC光刻机总出货量达到了681台，创下历史新高。

这一增长趋势反映出全球半导体行业的不断扩张。各大芯片制造商，包括台积电（TSMC）、三星（Samsung）、英特尔（Intel）等，都在积极扩建先进制程工厂，对高端光刻机的需求持续增加。此外，全球多国推动半导体自主化，也进一步促进了光刻机销量的增长。

2. 主要光刻机厂商市场份额

目前，全球光刻机市场主要由三家制造商主导：荷兰的ASML、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。其中，ASML占据高端市场的主导地位，而尼康和佳能则主要供应中低端光刻机。

（1）ASML：全球光刻机市场的霸主

ASML是目前全球唯一能够生产EUV光刻机的公司，其市场份额在高端光刻机领域接近100%。该公司每年出货约40~50台EUV光刻机，价格高达1.5亿至2亿美元/台，成为推动公司收入增长的关键因素。此外，ASML在DUV（深紫外）光刻机领域也占据较大市场份额，尤其是在ArFi（浸没式）和ArF（干式）光刻机方面，广泛应用于7nm及以上的芯片制造。

（2）尼康和佳能：中低端市场的主要供应商

尼康和佳能主要供应KrF和i-line光刻机，这些设备适用于成熟工艺节点，如28nm及以上的芯片制造。近年来，尼康也在尝试进入高端光刻市场，但由于EUV技术门槛极高，仍难以与ASML竞争。

3. 光刻机销量的产品结构

光刻机按技术类型可分为EUV、ArFi、ArF、KrF和i-line等。当前，全球光刻机市场仍以中低端设备为主，但高端EUV光刻机的销售额占比最高。

KrF光刻机（37.9%）：主要用于90nm及以上制程，广泛应用于显示面板、功率半导体等领域。

i-line光刻机（33.6%）：适用于成熟工艺，如微控制器、MEMS、模拟芯片等。

ArFi（15.4%）：主要用于7nm至28nm制程，是目前DUV光刻机中最先进的型号。

ArF干式（5.8%）：适用于28nm以上工艺节点，与ArFi类似，但不采用浸没技术。

EUV（7.3%）：用于5nm及以下的先进制程，是目前最先进的光刻技术，单台设备价值高，市场需求强劲。

尽管EUV光刻机的销量占比较低，但其市场价值远高于其他类型。随着芯片工艺向3nm、2nm演进，EUV光刻机的需求将继续增长。

4. 光刻机市场的未来趋势

（1）高端光刻机需求持续增长

随着人工智能、大数据、5G等领域对高性能芯片的需求增加，EUV光刻机的销量预计将继续上升。ASML计划在未来推出高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，以满足2nm及以下制程的需求。这类设备的价格预计将进一步上升，单台可能超过3亿美元。

（2）成熟工艺光刻机市场稳定增长

尽管先进制程需求旺盛，但成熟工艺（如28nm及以上）仍在许多领域占据主导地位，例如汽车芯片、功率半导体、传感器等。KrF和i-line光刻机的销量预计仍将保持稳定增长。

（3）光刻机供应链格局变化

全球半导体供应链正在经历调整，多国推动本土化生产，以减少对单一供应商的依赖。

（4）AI和自动化技术提升光刻机销量

随着AI和自动化技术的进步，光刻机的智能化程度不断提高。这不仅提升了芯片制造的良率，也减少了对高技能工程师的依赖，使更多国家和企业能够部署先进光刻机，从而推动销量增长。

5. 总结

全球光刻机市场在半导体行业的驱动下持续增长，ASML在高端市场占据主导地位，而尼康、佳能等公司则在中低端市场具有较强的竞争力。近年来，EUV光刻机的销量虽然占比不高，但市场价值巨大，已成为行业关注的焦点。

随着芯片制程技术的不断演进，EUV光刻机销量将持续增长，而成熟工艺光刻机（如KrF、i-line）的市场也将保持稳定。

总体而言，光刻机销量的增长反映了全球半导体行业的繁荣，未来这一市场仍将保持强劲增长态势。