光刻机是芯片制造过程中最核心的设备之一，被誉为现代工业皇冠上的明珠。全球只有少数几家企业具备光刻机的研发与生产能力，它们在市场上形成了相对垄断的格局。

1. 全球主要光刻机生产厂商

目前，全球光刻机市场主要由三大厂商主导：荷兰ASML、日本尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

（1）ASML（阿斯麦）——全球光刻机霸主

国家： 荷兰

市场份额： 约90%（高端市场几乎100%）

产品系列：

EUV光刻机（极紫外，Extreme Ultraviolet）：适用于7nm、5nm、3nm及以下先进工艺。

DUV光刻机（深紫外，Deep Ultraviolet）：包括ArFi（浸没式）、ArF（干式）、KrF等，适用于28nm及以上制程。

ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的公司，其EUV设备是台积电、三星、英特尔等芯片巨头实现先进制程的必备工具。由于EUV光刻机的高技术壁垒，ASML在该领域几乎处于垄断地位。近年来，该公司正在研发新一代High-NA EUV光刻机，用于2nm及以下工艺。

（2）尼康（Nikon）——日本光刻机巨头

国家： 日本

市场份额： 约7%

产品系列：

DUV光刻机（ArFi、ArF、KrF）：适用于28nm及以上工艺节点。

FPD光刻机（平板显示）：主要用于LCD、OLED等显示面板生产。

尼康曾在光刻机市场占据重要地位，20世纪90年代曾是全球最大的光刻机供应商之一。然而，随着ASML在EUV领域的崛起，尼康的市场份额逐渐下降，目前主要专注于DUV光刻机和FPD光刻机领域。近年来，尼康试图在EUV光刻机市场重新发力，但尚未取得突破性进展。

（3）佳能（Canon）——成熟工艺市场的主力

国家： 日本

市场份额： 约3%

产品系列：

KrF光刻机（适用于90nm及以上）

i-line光刻机（适用于成熟制程，如MEMS、功率半导体等）

纳米压印光刻机（NIL）

佳能的光刻机主要面向成熟工艺市场，如汽车芯片、功率器件、模拟芯片等领域。由于佳能缺乏EUV技术，其市场份额主要集中在中低端市场。然而，该公司正在推进纳米压印光刻机（NIL），希望在下一代芯片制造技术中占据一席之地。

2. 光刻机生产的挑战

（1）技术门槛高

光刻机是全球最复杂的制造设备之一，一台EUV光刻机包含超过10万个精密零部件，需要全球最先进的精密光学、机械、电子和软件技术。目前，只有ASML能够生产EUV光刻机，而DUV光刻机的制造也只有少数几家企业能掌握。

（2）供应链依赖

光刻机的核心零部件供应链高度依赖特定企业：

光源：EUV光源由美国Cymer（ASML子公司）供应。

光学系统：DUV光学系统由日本尼康和德国蔡司提供，EUV光学系统完全由蔡司供应。

精密运动控制：荷兰ASML、德国蔡司、日本尼康等公司掌握核心技术。

这些供应链的复杂性使得新进入者难以快速突破市场。

3. 光刻机生产厂的未来趋势

（1）EUV光刻机的持续升级

ASML正在开发High-NA EUV光刻机，该设备的数值孔径（NA）从0.33提升至0.55，分辨率提高至2nm以下，将用于未来的1.4nm及更先进制程。预计第一批High-NA EUV设备将在2025年前后交付。

（2）成熟制程市场的稳定增长

尽管EUV光刻机吸引了大量关注，但28nm及以上的成熟工艺仍然是市场的主流。尼康、佳能和上海微电子等厂商将在这一市场持续竞争。

4. 总结

光刻机的生产高度集中，全球市场主要由荷兰ASML、日本尼康和佳能主导。ASML在高端市场占据绝对领先地位，而尼康和佳能主要供应成熟工艺光刻机。

光刻机生产厂的未来趋势包括EUV光刻机的持续升级、成熟工艺市场的稳定增长以及国产光刻机的崛起。随着半导体技术的进步，光刻机行业仍将保持高速发展，成为全球科技竞争的重要领域之一。