光刻机中使用的光源通常不是激光，而是紫外光源。光刻技术在半导体制造中是至关重要的步骤，它使用光来定义集成电路（IC）上的微小图案。这些微小图案决定了电路板上电子元件的排列和连接方式，因此光源的选择对于成像的精度和效率至关重要。

光刻机的光源必须具备几个关键特性：波长短、能量稳定和具备精确的聚焦能力。传统的光刻机通常使用紫外光作为光源，主要是因为紫外光具有较短的波长（通常在200到400纳米之间），这使得它能够实现更高的分辨率。在半导体工艺中，分辨率的提高意味着可以在芯片表面上创建更小、更密集的结构，从而提高集成电路的性能和效率。

相比之下，激光的波长通常较长，不适合在光刻工艺中实现所需的微细图案。此外，激光的能量稳定性和聚焦能力通常也不如紫外光。因此，尽管激光在其他领域（如激光切割和激光打印）具有重要应用，但在光刻技术中，紫外光源是更为常见和有效的选择。

在现代半导体制造中，随着集成电路的尺寸不断缩小和复杂度的增加，光刻技术的发展也在不断进步。新型的光源技术和改进的光刻机设计不断涌现，以满足更高分辨率和更复杂图案的要求。然而，紫外光作为光刻机的主要光源仍然是半导体制造中不可或缺的关键技术之一。