光刻机的价格取决于多种因素，包括制造商、型号、技术水平、性能要求、配置选项以及市场供需情况等。因此，光刻机的价格范围非常广泛，从数百万美元到数亿美元不等。

制造商和型号： 不同制造商生产的光刻机价格存在差异。全球主要的光刻机制造商包括ASML、尼康、英特尔、CANON、Nikon、Ultratech等。不同型号的光刻机在性能、功能和应用方面也存在差异，因此价格也不同。

技术水平和性能要求： 光刻机的技术水平和性能要求对价格影响巨大。例如，极紫外光刻机（EUV）是目前最先进的光刻技术之一，其价格通常较高。相比之下，传统的紫外光刻机价格相对较低。

配置选项和附件： 光刻机的价格还受到配置选项和附件的影响。例如，光刻机是否配备了先进的光刻镜头、自动化系统、智能控制系统、高精度校准系统等，都会影响到其价格。

市场供需情况： 光刻机的价格也受到市场供需情况的影响。当市场需求旺盛时，光刻机的价格可能会上涨；相反，当市场需求不足时，价格可能会下降。

总的来说，光刻机是半导体制造过程中的关键设备之一，价格通常较高，通常需要数百万美元甚至数亿美元的投资。对于半导体制造厂商而言，购买光刻机是一项重大的资本支出，需要谨慎考虑各种因素，并与供应商进行充分的洽谈和协商，以确保选择到合适的设备并获得最佳的价格性能比。