极紫外（EUV）光刻技术被视为下一代半导体制造的关键技术之一，具有更高的分辨率和更快的生产速度，能够满足日益增长的芯片制造需求。然而，EUV光刻机的价格一直是业界关注的焦点，因为其技术复杂性和高昂的成本使得其价格相对较高。

技术复杂性： EUV光刻机的制造难度较大，需要使用极端紫外光源来照射光刻胶，以实现超高分辨率的图案转移。这种光源的制造技术非常复杂，成本较高，也是EUV技术中的关键瓶颈之一，直接影响着光刻机的价格。

高昂的研发和制造成本： 研发和制造EUV光刻机需要大量的资金投入和技术支持。制造商需要进行大规模的研发工作，开发出符合市场需求的高性能光刻机，同时还需要投入大量资金用于设备制造、测试和验证等环节，这些成本都会直接影响到最终产品的价格。

供应链问题： EUV光刻机的制造过程涉及到多个供应链环节，包括光源制造、光刻机组装、光刻胶供应等，其中任何一个环节的问题都可能导致整体供应链的延迟或中断，进而影响到产品的交付和价格。

市场需求和竞争： 尽管EUV技术被认为是未来芯片制造的趋势，但由于其技术成熟度和成本等方面的限制，目前仍然面临一定的市场挑战。同时，ASML作为主要的EUV光刻机制造商，垄断了该领域的大部分市场份额，这也为其提供了一定的定价权。

综上所述，EUV光刻机的价格通常在数千万美元至数亿美元之间，取决于多个因素的综合影响。尽管价格较高，但随着技术的进步和市场的发展，EUV光刻机的成本可能会逐渐降低，为其在半导体制造业的广泛应用打下基础。