光刻机是半导体制造领域中不可或缺的关键设备，其价格是由多个因素决定的，因此无法简单地给出一个固定的价格。光刻机的价格取决于制造商、型号、配置、技术水平、市场供需等多方面因素。

制造商和型号： 不同制造商生产的光刻机价格有很大的差异。知名制造商如ASML、Nikon、Canon等，其生产的高端光刻机价格通常在数百万美元至数千万美元之间。而一些中低端的光刻机价格可能会低一些，但仍然较昂贵。

技术水平和性能： 光刻机的价格与其技术水平和性能密切相关。先进的光刻机通常具有更高的分辨率、更大的制程范围和更高的生产效率，因此价格也更高。相反，较低端的光刻机可能具有较低的分辨率和生产效率，但价格也相对较低。

配置和附件： 光刻机的价格还取决于其配置和附件。一些高端光刻机配备了更多的自动化功能、先进的对准系统和优化的光刻胶处理系统等，这些附件会增加设备的价格。

市场供需： 光刻机的价格也受市场供需关系的影响。如果市场需求增加或供应不足，价格可能会上涨；相反，如果市场供应过剩，价格可能会下降。

综上所述，光刻机的价格范围非常广泛，通常在数百万美元至数千万美元之间。具体的价格需要根据实际情况来确定，购买者需要考虑自身需求和预算，选择适合的光刻机型号和配置。此外，购买光刻机后，还需要考虑设备的维护和运营成本，以确保设备的长期稳定运行。