EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是半导体制造业中的一项前沿技术，用于制造高度集成的微处理器和存储芯片。由于其高精度、高效率和高成本效益的特点，EUV光刻机的价格相对较高，一台EUV光刻机的价格通常在数亿美元至数十亿美元之间，取决于供应商、型号和配置等因素。
技术成熟度： EUV技术相对于传统的光刻技术更为复杂和先进，因此，较为成熟和稳定的EUV光刻机价格可能会更高，而新型的、刚刚投入市场的EUV光刻机价格可能会稍低一些。
制造商： 目前主要的EUV光刻机制造商包括ASML、Nikon和Canon等。不同制造商的产品定位、技术水平和市场份额不同，因此，不同制造商的EUV光刻机价格也会有所不同。
配置选项： EUV光刻机具有多种配置选项，包括分辨率、曝光速度、自动化程度等。配置选项的不同会直接影响到光刻机的价格，一般来说，配置越高的EUV光刻机价格也会越高。
交付时间： 由于EUV光刻机技术的高度复杂性和稀缺性，交付时间可能会较长，这也会对光刻机的价格产生一定的影响。
总的来说，EUV光刻机的价格对于半导体制造企业来说是一项巨大的投资，但它也是实现下一代芯片制造的必要条件。随着EUV技术的进一步成熟和市场需求的增长，相信EUV光刻机的价格将逐步趋于合理，并且会在半导体产业的发展中发挥越来越重要的作用。
