光刻机的发明和发展是半导体工业发展历程中的重要组成部分。然而，光刻机的起源并非由一个单一的创始人所确定，而是涉及了许多科学家、工程师和企业在长期的研究和开发中共同努力的结果。

1. Harold N. Graves

Harold N. Graves是美国贝尔实验室的一位工程师，他在20世纪50年代初首次提出了光刻技术的概念，并开发了第一台用于半导体制造的光刻机。他的工作奠定了光刻技术在半导体工业中的基础，为后来的研究和开发奠定了重要基础。

2. Eugene G. Rocca

Eugene G. Rocca是另一位对光刻技术发展做出重要贡献的科学家。他在20世纪60年代末和70年代初领导了贝尔实验室的光刻技术研发工作，并开发了许多关键的光刻机技术。他的工作推动了光刻技术的进步，并为后来的工程师和科学家提供了重要的研究方向。

3. 半导体制造企业

除了个别科学家和工程师外，许多半导体制造企业也对光刻技术的发展做出了重要贡献。企业如ASML、Nikon、Canon等通过不断的研发和创新，推动了光刻机技术的发展，使其成为半导体工业中不可或缺的关键设备之一。

4. 其他贡献者

除了上述个别人物和企业外，还有许多科学家、工程师和研究机构在光刻技术的发展中做出了重要贡献。这些贡献者可能来自于不同国家和地区，通过他们的研究和努力，推动了光刻技术的进步和应用。

总的来说，光刻机技术的发展是一项集体努力的结果，涉及了许多人的贡献和合作。尽管没有单一的创始人，但各个科学家、工程师和企业在光刻技术的发展中都发挥了重要作用，共同推动了这一领域的进步和发展。