1960年代末和1970年代初期，半导体技术正处于蓬勃发展的初期阶段，人们对于如何将电子元件迅速、准确地制造出来面临着巨大挑战。在这个时候，一台被认为是世界上第一台光刻机的设备诞生了。

这台历史上具有标志性意义的光刻机被称为“凯文减影机”（Karl-Suss MA6 Mask Aligner）。它由德国科学家卡尔·苏斯（Karl Süss）于1968年发明，并于1969年开始商业化生产。凯文减影机是一种近距离接触式光刻机，它采用紫外线光源照射在掩模（Mask）上的图案，然后通过光学系统将这些图案投射到硅片上，形成所需的电路结构。

凯文减影机之所以被认为是世界上第一台光刻机，主要是因为它在当时开创了光刻技术的先河，并在半导体工业中发挥了重要作用。在凯文减影机之前，人们主要使用传统的光刻技术，如间接光刻和X射线光刻，但这些方法存在着诸多限制，如分辨率低、成本高等问题。而凯文减影机的问世，极大地提高了光刻技术的分辨率和精度，使得可以制造出更小、更密集的电子器件，从而推动了半导体工业的发展。

凯文减影机的工作原理是基于近距离接触式光刻技术。在这种技术中，掩模与硅片之间的距离非常接近，通常在几微米到几十微米之间。这种近距离接触的方式可以确保光学投影的图案精准地转移到硅片表面，从而实现高分辨率的光刻。此外，凯文减影机还采用了特殊的掩模对准技术，可以确保不同层次的图案对准精度，从而实现多层次的电路结构制造。

凯文减影机的问世标志着光刻技术进入了一个全新的发展阶段。它不仅极大地提高了半导体器件的制造精度和效率，还为后续光刻机的发展奠定了基础。随着半导体工业的不断发展，光刻技术也在不断进步，涌现出了许多新的光刻机类型和技术。然而，作为世界上第一台光刻机，凯文减影机将永远被铭记在历史上，因为它为现代电子工业的发展做出了不可磨灭的贡献，同时也为后来的光刻技术提供了宝贵的经验和启示。