光刻机是集成电路制造的核心设备，是制造高端芯片的必备设备。光刻机的价格取决于光刻机的型号、技术水平、制造工艺等因素。

目前，全球只有荷兰的ASML公司能够生产EUV光刻机，其余光刻机技术均被美日等国垄断。ASML公司的EUV光刻机售价高达1.2亿美元，是世界上最昂贵的工业设备之一。

ASML公司的EUV光刻机的价格如此之高，主要原因有以下几点：

EUV光源的研发和生产：EUV光源是EUV光刻机的核心部件，其研发和生产具有极高的技术难度。EUV光源需要使用氖氟氪（NeF2）气体作为激光介质，其生产工艺复杂，需要采用先进的真空技术。

光学设计：EUV光刻机的光学设计要求极高，需要采用先进的光学设计技术。

工艺制造：EUV光刻机的制造工艺要求极高，需要采用先进的制造工艺。

此外，ASML公司作为全球光刻机领域的龙头企业，其产品具有较高的品牌溢价。

除了EUV光刻机之外，其他类型的光刻机的价格也较高。例如，ASML公司的ArF浸没式光刻机售价约为1000万美元，DUV光刻机售价约为100万美元。

国产光刻机的价格要低于国外光刻机。例如，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）的28nm浸没式光刻机售价约为1000万元。

总而言之，一台光刻机的价格取决于多种因素，一般来说，光刻机的价格越高，其技术水平越先进。