28纳米是集成电路制造工艺的一个重要节点。该工艺可以制造出性能、功耗、成本等方面都具有良好表现的芯片，广泛应用于智能手机、服务器、汽车电子等领域。

2023年12月，上海微电子装备（集团）股份有限公司成功研发出28纳米浸没式光刻机，并交付给中芯国际。这标志着我国在高端光刻机领域取得了重大突破，为我国集成电路产业的发展提供了有力保障。

28纳米光刻机的技术特点

28纳米光刻机采用ArF浸没式光源，NA1.35的透镜组，可实现单次曝光38-41nm的分辨率。该光刻机还采用了多项先进技术，包括：

高精度MVS对准系统：MVS对准系统采用多视点对准技术，可实现高精度、高重复性的对准。

低畸变投影物镜：投影物镜采用先进的光学设计技术，可有效降低光学畸变。

超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统：超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统可提高光刻机的曝光精度和稳定性。

28纳米光刻机的意义

28纳米光刻机的研发成功具有重要意义：

填补了我国在28nm浸没式光刻机领域的空白，标志着我国在集成电路制造领域的技术水平有了重大突破。

为我国集成电路产业的发展提供了有力保障，将推动我国集成电路产业的快速发展。

有利于我国半导体产业的自主可控，减少对国外光刻机的依赖。

28纳米光刻机的未来

28纳米光刻机仍在不断发展。上海微电子公司正在积极研发更高分辨率、更高产量的光刻机。上海微电子公司还计划与国内外企业合作，建立光刻机产业联盟，共同推动我国光刻机产业的发展。

随着28纳米光刻机的不断发展，我国将有望在高端光刻机领域实现自主可控，为我国半导体产业的发展提供有力保障。