SMEE光刻机是上海微电子装备(集团)股份有限公司研发生产的光刻设备。SMEE是“上海微电子”的英文缩写。

光刻机是集成电路制造中最重要的设备之一，用于将图形转移到半导体晶圆上。光刻机的性能直接决定了集成电路的线宽、精度和产量。

SMEE光刻机主要有两个系列：SSB500系列和SSX600系列。SSB500系列用于集成电路先进封装，SSX600系列用于集成电路前道制造。

SSB500系列光刻机

SSB500系列光刻机采用步进投影技术，分辨率可达0.8~2μm。SSB500系列光刻机主要应用于Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等先进封装形式，可满足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级/方板级光刻工艺需求。

SSB500系列光刻机的核心技术包括：

高精度MVS对准系统：MVS对准系统采用多视点对准技术，可实现高精度、高重复性的对准。

低畸变投影物镜：投影物镜采用先进的光学设计技术，可有效降低光学畸变。

特征图形标记和光栅标记：特征图形标记和光栅标记可提高对准精度和套刻精度。

SSX600系列光刻机

SSX600系列光刻机采用步进扫描投影技术，分辨率可达90nm、110nm、280nm。SSX600系列光刻机主要用于集成电路前道制造，可满足90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。

SSX600系列光刻机的核心技术包括：

四倍缩小倍率的投影物镜：四倍缩小倍率的投影物镜可提高光刻机的曝光效率。

工艺自适应调焦调平技术：工艺自适应调焦调平技术可实现自动调焦和调平，提高光刻机的自动化程度。

高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术：高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术可提高光刻机的曝光精度。

SMEE光刻机的意义

SMEE光刻机的研发成功是我国半导体产业的重要里程碑。SMEE光刻机填补了我国在高端光刻机领域的空白，标志着我国在集成电路制造领域的技术水平有了重大突破。

SMEE光刻机的成功应用将推动我国集成电路产业的快速发展。SMEE光刻机可用于制造高性能、高集成度的集成电路，将广泛应用于人工智能、物联网、自动驾驶等领域。

SMEE光刻机的未来

SMEE光刻机仍在不断发展。SMEE公司正在积极研发更高分辨率、更高产量的光刻机。SMEE公司还计划与国内外企业合作，建立光刻机产业联盟，共同推动我国光刻机产业的发展。

SMEE光刻机的未来充满了希望。随着SMEE光刻机的不断发展，我国将有望在高端光刻机领域实现自主可控，为我国半导体产业的发展提供有力保障。